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可以写一个更详细点的本类别产品介绍（产品内容暂时空，先随便填充的）。是原子层沉积的发源地。1984 年，我们建立了世界上第一个使用 ALD 的工业生产。今天，我们以研发产品（TFS 200、TFS 500）、半导体器件制造（Transform）引领市场。TM）、3D 和批量生产（P400A、P800、P1500）、超快空间原子层沉积 （C2R） 和卷对卷原子层沉积 （Genesis）。
Product For Semiconductor
可以写一个更详细点的本类别产品介绍（产品内容暂时空，先随便填充的）。是原子层沉积的发源地。1984 年，我们建立了世界上第一个使用 ALD 的工业生产。今天，我们以研发产品（TFS 200、TFS 500）、半导体器件制造（Transform）引领市场。TM）、3D 和批量生产（P400A、P800、P1500）、超快空间原子层沉积 （C2R） 和卷对卷原子层沉积 （Genesis）。
Customized Equipment
可以写一个更详细点的本类别产品介绍（产品内容暂时空，先随便填充的）。是原子层沉积的发源地。1984 年，我们建立了世界上第一个使用 ALD 的工业生产。今天，我们以研发产品（TFS 200、TFS 500）、半导体器件制造（Transform）引领市场。TM）、3D 和批量生产（P400A、P800、P1500）、超快空间原子层沉积 （C2R） 和卷对卷原子层沉积 （Genesis）。
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