原子层沉积 （ALD） 是一种薄膜沉积技术，能够制造全球最具创新性的行业的下一代器件。ALD 用于制造具有其他沉积技术无法比拟的埃级精度和保形性的高质量镀膜，已成为纳米技术进步的必要镀膜工具。
ALD 最初是为制造用于电致发光显示器的荧光粉薄膜而开发的，后来成为半导体行业芯片小型化不可或缺的使能技术。这是现代电子产品如此快速和强大的唯一原因之一，而且往往不为人知。
如今，原子层沉积 （ALD） 继续在半导体制造中结出硕果，并正在成为从光学、光子学和图像传感器到 MEMS、绿色能源和珠宝等无数新行业的主流。每年发表的关于 ALD 的论文都比上一次多，并且发现了保形薄膜的独特应用。我们才刚刚开始触及原子层沉积可能性的皮毛。
